臺(tái)積電：2023年4nm將成主流技術(shù)

發(fā)布: 2021-06-17 11:48 | 作者: | 來(lái)源: | 字體:  小  中  大 

據(jù)《臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)》報(bào)道，臺(tái)積電先進(jìn)技術(shù)業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)處長(zhǎng)袁立本今日表示，出于成本考量，中低階手機(jī)、消費(fèi)電子產(chǎn)品等產(chǎn)品采用最先進(jìn)制程技術(shù)時(shí)間會(huì)稍有延遲，目前多數(shù)采用16/12nm并正向6nm邁進(jìn)，預(yù)計(jì)至2023年這類產(chǎn)品的主流技術(shù)將會(huì)是4nm。


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