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在芯片的制造過程中，需要給晶圓涂上光刻膠，再用光刻機進行刻錄。而光刻膠按照工藝的不同，也分為分別為g線、i線、KrF、ArF、EUV。
g線、i線主要用于250nm以上工藝，相對落后；KrF一般用于250nm-130nm工藝；ArF一般用于130nm-14nm，最多可以用于7nm DUV工藝；EUV光刻膠就是配合EUV光刻機，主要用于7nm及以下工藝。
在光刻膠領(lǐng)域，國內(nèi)是比較落后的，總體自給率不足10%，其中分開來看，g線/i線自給率約為20%，KrF光刻膠的自給率不足5%，至于ArF、EUV光刻膠，不好意思，無法生產(chǎn)，100%得靠進口，自給率為0%。
而日本是全球光刻膠領(lǐng)域最牛的國家，在g線/i線、KrF、ArF、EUV膠市場中市占率分別為61%、80%、93%，100%。
所以日本廠商的光刻膠是全球的緊缺貨，一旦日本不供應(yīng)光刻膠，全球的芯片產(chǎn)業(yè)都要受到影響。
而近日，這樣的事情終于發(fā)生了，據(jù)媒體報道稱，由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限，而全球芯片產(chǎn)能卻不斷擴產(chǎn)，再加上2月份的日本福島地震，影響了光刻膠的產(chǎn)能。
所以日本的信越化學(xué)開始中國大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠，甚至開始向部分中小晶圓廠停供KrF光刻膠，后續(xù)可能還會有更多的廠商，甚至?xí)可娴紸rF光刻膠的供應(yīng)。
而KrF用于250nm-130nm工藝，ArF用于130nm-14nm工藝，這也正是國內(nèi)眾多晶圓廠使用的工藝，業(yè)內(nèi)人士預(yù)測未來國內(nèi)多家晶圓廠或?qū)⒚媾RKrF、ArF光刻膠大缺貨的處境。
目前中國正在大力發(fā)展半導(dǎo)體，不知道這件事情，有沒有讓大家感受到絲絲涼意？
事實上，在半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體設(shè)備等領(lǐng)域，目前國內(nèi)的產(chǎn)業(yè)鏈確實還是比較落后的，依賴國外的地方也比較多，所以接下來，我們不僅僅要發(fā)展芯片制造本身，還需要加強對上游材料、設(shè)備等的重視和投入，你覺得呢？
