Rapidus 公司成功購入并安裝首臺 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻機
Rapidus 首席執(zhí)行官、日本政府代表、北海道及千歲市地方政府代表、ASML 高管、荷蘭駐日本大使等相關人士出席了在北海道新千歲機場舉行的紀念儀式。
NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻機的最新型號，能夠滿足 Rapidus 首代量產工藝 2nm 的制造需求。該光刻機與 0.55 (High) NA EXE 平臺共享部分組件，晶圓吞吐量較前款 NXE:3600D 提升了 37.5%。除了核心的 EUV 光刻機外，Rapidus 還將在 IIM-1 晶圓廠安裝一系列配套先進半導體制造設備以及全自動材料處理系統(tǒng)，以實現(xiàn) 2nm 制程 GAA（全環(huán)繞柵極）結構半導體的生產。
Rapidus 再次確認 IIM-1 晶圓廠將于 2025 年 4 月啟動試產，且該晶圓廠所有半導體制造設備均將采用“單晶圓工藝”。Rapidus 將在該模式下構建名為 RUMS（快速和統(tǒng)一制造服務）的新型半導體代工模式。這一舉措將有助于 Rapidus 提升其在全球半導體市場的競爭力，并為日本半導體產業(yè)的發(fā)展注入新的活力。
