印度科學家團隊提議開發(fā)埃米級 2D 非硅芯片,尋求 50 億盧比政府資金支持

印度科學家計劃開發(fā)埃米級 2D 非硅芯片據印度報業(yè)托拉斯 PTI 昨日報道,來自印度科學學院 IISc 的 30 名科學家向政府提交了一份提案,計劃開發(fā)埃米級(10-10 米級、亞納米級)2D 非硅芯片。該科學家團隊在 2022 年 4 月向印度首席科學顧問 (PSA) 提交了一份詳細項目報告 (DPR),并在去年 10 月對報告進行了修改和二次提交,該報告已向印度電子和信息技術部 (MeitY) 共享。據悉,MeitY 對此項目持積極態(tài)度。IISc 團隊在報告中提到了兩類可用于制造埃米級 2D 非硅芯片的物質:石墨烯和過渡金屬硫化物(簡稱 TMD,如這一領域的“明星材料”二硫化鉬 MoS2),并尋求五年內 50 億盧比(現(xiàn)匯率約合 4.27 億元人民幣)的政府研發(fā)支持資金。印度在傳統(tǒng)硅基芯片制造領域相對落后,而硅基半導體的進一步制程收縮正面臨一系列問題,加速非硅 2D 芯片的研發(fā)有助于該國提升后硅時代的半導體競爭力。

這一計劃的提出顯示了印度在半導體領域追求創(chuàng)新和突破的決心。埃米級 2D 非硅芯片的開發(fā)將為印度提供一個機會,在全球半導體市場中占據一席之地。

石墨烯和過渡金屬硫化物作為制造芯片的材料具有獨特的優(yōu)勢。石墨烯具有出色的電學性能和機械強度,而過渡金屬硫化物則在電子遷移率和能帶隙調控方面表現(xiàn)出色。這些特性使得它們成為制造高性能、低功耗芯片的理想選擇。

然而,要實現(xiàn)這一目標,印度還需要克服許多挑戰(zhàn)。其中包括材料的大規(guī)模生產、芯片制造工藝的優(yōu)化以及相關產業(yè)生態(tài)系統(tǒng)的建設等。此外,獲得足夠的政府資金支持也是關鍵因素之一。

如果印度能夠成功開發(fā)出埃米級 2D 非硅芯片,將對該國的科技和經濟發(fā)展產生深遠影響。這不僅將提升印度在半導體領域的地位,還將為其他領域的創(chuàng)新提供強大的支持。

總的來說,印度科學家的這一計劃為該國的半導體產業(yè)帶來了新的希望。然而,要將這一計劃變?yōu)楝F(xiàn)實,還需要各方共同努力,包括政府、科研機構和企業(yè)等。相信在大家的共同努力下,印度有望在半導體領域取得重要的突破。


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